美日荷联手围堵,中科院:灯塔被熄灭,我们进入“黑暗森林”!

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美日荷联手围堵,中科院:灯塔被熄灭,我们进入“黑暗森林”!

三体电视剧的爆火,让我们看清了科技弱后的“无力感”,那种“叫天不应、叫地不灵”的压迫感,找不到任何的帮手,甚至还出现了“叛徒”,想着依靠“外力”改变现状,所有的一切只能靠人类自己解决。

而如今“科幻”真的照进了现实,老美试图全面“封锁”对中国基础半导体技术,联合日本、荷兰全面限制光刻设备的出口,在网络上层出不穷的“好消息”下,国人还真就以为,中国半导体产业无惧挑战了。

关于美半导体全面的限制会带来什么影响,目前中科院已经给出了答案:“逆全球化的产业链“脱钩”愈演愈烈,依靠现有的基础科技能力,很难支撑高科技水平的自立自强发展战略!”

在中美科技博弈的过程中,也直接暴露了我们的问题,核心技术之所以会被“卡脖子”,主要原因在于基础理论研究跟不上,面对全面封锁的到来,中科院直言:“国内半导体基础研究匮乏,我们将进入”黑暗森林”!

在2020年的科学家论坛上,类似的问题就被提及,在过度“自嗨”的背景下,国人对类似的消息并不太重视,如今中科院的证实说明了一切,那国家都制定了什么方式进行挽救呢?这场“困局”我们能否走出?

问题已经摆在眼前

显然中科院很早之前就意识到了这个问题,结合国家精准制定的针对科研领域的方针,2022年就公布了“基础研究十条”,明确了基础研究的战略定位、重点布局以及发展目标,强化人才、组建学术生态,将会成为后续的主要目标。

加强半导体基础能力建设,是一切产业融合的起始,这也是目前中美企业竞争的主阵营。全球半导体产业年产值突破6000亿美元,经过初步的推算其中1美元的产值,能够间接拉动全球超100美元的GDP,这也是各个国家全速布局“自主化”的主因。

芯片分为研发设计、制造成型、封装测试三个环节,光刻机的难以突破,让很多人认定为制程工艺是最难突破的,但实则虽然设计出了5nm的芯片,但并未实现真正的自主化,设计所需要的EDA软件需要美企授权,王阳元院士曾表态:“半导体产业链中的任一设备、材料、配件,都有可能成为制约竞争者的手段。”

利用自身供应链的优势,在过去的三年时间里,老美循序渐进的规则升级,让中企在半导体产业发展过程中异常难受,在亚洲强行组建了所谓的“芯片四方联盟”,随后又施压荷兰、日本的设备供应商,试图全面“锁死”基础产业的合作。

芯片规则一开始,就阻断了EUV光刻机的出货,直接让中企最顶尖的工艺定格在了14nm上,随后又限制授权下一代GAA晶体管的EDA软件,意图将我国工艺定格在FinFET晶体管上,同时DUV光刻设备也将被限制,国内仅能实现了90nm工艺还不足以满足现阶段需求。

全球半导体物理、微电子领域的基础研究成果,都被储存进了EDA工具的工艺设计套件(PDK)中,被全面禁用的话,就意味着我们失去了全球研究成果共享的机会。

在意识到问题的严重性之后,国内决策者才发声:“美国已经拧熄了“灯塔”,我们进入“黑暗森林”。”但这并非是“悲观”的态度,而是为了更好的“叫醒”心存侥幸的人,从而集结全部的力量,参与到基础理论生态的完善中。

如何解决困局

半导体物理是一切半导体技术的源头,而如今“电子芯片”已经接近摩尔定律极限,这是以目前的科技水平无法解决的难题,因此急需全新的突破,包括了全球的理论、材料、工艺等等,“基础物理”也迎来了近半个世纪以来最大的挑战。

但在中美合作“脱钩”的情况下,国产芯片即便足够优秀,也很难打入国际产业链当中,因此目标要聚焦于下一代材料、器件、工艺等研发上,要将“你中有我”的困境转变为“我中有你”,掌握大量的技术专利,就能够改变依赖的困局。

虽然在半导体基础研究技术上有优势,但老美还未放弃,在2022年时,通过了价值2800亿美元的芯片法案,用于扶持产业的继续升级与发展,扶持科技产业算是他们的老传统了,对科技人才不吝啬,这也是能够留住人才的关键,而国内人才流失严重也是出于这个层面的原因。

国内要想实现赶超,就要把科研方向聚焦于“后摩尔定律”时代的创新,从材料物理、结点物理、器件物理上寻求突破,将国内顶尖高校加入到集成电路领域人才培养行列中,切实提升人才的福利待遇,同时也要减少“人情关系”式的职场氛围。

国内有不少这样的例子,一个在研究院内干了大半辈子,都还是一个年薪十几万的小职员,原因是不会人情交往,在离职之后直接逆袭成为百万年薪的高级工程师,等问题出现的时候,才发现非它不可。

科研人员注定不会“圆滑”处事 ,过于“圆滑”的科研人员,终究也不会有大成就,要加强理论物理的研究,不要着眼于快速出成绩的应用物理,特别是要改变不利于科研的人才评价机制,建立起协同创新机制,切莫一个人埋头苦干,对此你们是怎么看的呢?

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