大家都喜欢讨论弯道超车，的确，在二十年前，半导体产业的确遇到过两个弯道超车的机会：
第一个就是半导体工艺从平面到3D的转变，FinFET的崛起奠定了今天台积电的宏图伟业；
第二个是EUV光刻机取代DUV光刻机的颠覆性转变，EUV光刻机的崛起奠定了今天ASML的宏图伟业。
不过我们似乎并没有集中力量讨论，为何二十年前的两次弯道超车的机会，一个发生在中国台湾，另一个发生在欧洲荷兰，却都被内地的工业界完美错过了。
最近，《中国科学院院刊》刊载了骆军委、李树深的文章《加强半导体基础能力建设 点亮半导体自立自强发展的“灯塔”》，文章指出：
由于西方制裁，包含下一代半导体工艺GAA制程有关的PDK的EDA工具对中国全面封锁，我国半导体产业发展进入“黑暗森林”。
这其实是没有办法的事情，因为有一个半导体界的弯道超车工艺–GAA所依赖的制程，又几乎是与西方垄断的EUV光刻机深度绑定的。
然而，对于文中的问题，我们始终没有答案：
是谁导致了我国决策者、政府人员甚至产业界都认为，没有半导体基础研究也可以发展半导体产业？
如果我们不能够清晰的问答这个问题，既不能找到发展的方向，更不能保证下一步的发展不会继续被错误的判断诱导！
当然，对于“黑暗森林”，简体中文自媒体也是可以搞定的，因为毕竟他们可以手工完成0.85纳米芯片，以后台积电和ASML就只能“家里蹲”了。
我曝光了无数的浮夸沸腾自媒体，后来发现他们在网络存在的时间已经很久了。
其实这几个自媒体的文章，根本不需要动脑子，只需要每天改几个关键词就可以循环播放了，比如“北大光刻机”改成“中国碳芯片”、“清华EUV光源”、“哈工大极紫外光刻机”、“长光所EUV整机”、“上海光机所DUV光学集成”、“中科院镀膜机”，文中内容没所谓，因为网民需要的是自嗨，满足了自嗨的补血功能就可以了。
但是，就更深层次的问题而言：为什么我们的社会舆论全部是这种浮夸沸腾的文字呢？
是浮夸沸腾的科技嗨文的诱导，误导了我国决策者、政府人员甚至产业界都认为，没有半导体基础研究也可以发展半导体产业？
还是由于我国的决策者、政府人员甚至产业界的盲目乐观和错误判断，促成了与之匹配的浮夸沸腾舆论和其生存土壤？
我想，在面对半导体产业面对的“黑暗森林”困局的时候，有必要重新审视这个严肃的问题。
